電鍍工藝領(lǐng)域超純水設(shè)備選用了EDI技術(shù)性與離子交換法技術(shù)性融合的方法，運(yùn)用工作電壓將水里的電離子開展定項轉(zhuǎn)移，根據(jù)應(yīng)用離子交換法環(huán)氧樹脂的吸咐功效將水里的電離子趨于陽離子過慮膜和正離子過慮膜，較后產(chǎn)生濃水排出來。

典型性超純水系統(tǒng)制取加工工藝

1、預(yù)備處理系統(tǒng)軟件→反滲透系統(tǒng)軟件→正中間水箱→粗混和床→精混和床→純水箱→純水泵→紫外線消毒器→打磨拋光環(huán)氧樹脂→精密過濾器→用水目標(biāo)(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)手工藝)

2、預(yù)備處理→反滲透→正中間水箱→水泵→EDI設(shè)備→提純水箱→純水泵→紫外線消毒器→打磨拋光環(huán)氧樹脂→0.2或0.5μm精密過濾器→用水目標(biāo)(≥18MΩ.CM)(全新加工工藝)

3、預(yù)備處理→一級反滲透→投藥機(jī)(PH調(diào)整)→正中間水箱→第二級反滲透(正電反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI設(shè)備→紫外線消毒器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水目標(biāo)(≥17MΩ.CM)(全新加工工藝)

4、預(yù)備處理→反滲透→正中間水箱→水泵→EDI設(shè)備→純水箱→純水泵→紫外線消毒器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水目標(biāo)(≥15MΩ.CM)(全新加工工藝)

5、預(yù)備處理系統(tǒng)軟件→反滲透系統(tǒng)軟件→正中間水箱→純水泵→粗混和床→精混和床→紫外線消毒器→精密過濾器→用水目標(biāo)(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)手工藝)

電鍍工藝領(lǐng)域超純水設(shè)備特性優(yōu)點

EDI水處理系統(tǒng)特性優(yōu)點不計其數(shù)，其可以持續(xù)平穩(wěn)的制取質(zhì)量優(yōu)質(zhì)的超純水系統(tǒng)，不容易由于環(huán)氧樹脂再造而停止運(yùn)行，機(jī)器設(shè)備總體設(shè)計相對性靠緊，因此 其占地面積十分小，能夠為公司節(jié)約許多 室內(nèi)空間，超純水設(shè)備在原廠前均需開展設(shè)備調(diào)節(jié)，因此 機(jī)器設(shè)備常見故障概率較小，日常保養(yǎng)、檢修等實際操作都比較簡單。

超純水系統(tǒng)內(nèi)部還安裝有反滲透預(yù)除鹽技術(shù)性，再度從源頭上行確保了機(jī)器設(shè)備的出水量水體，此外，EDI解決設(shè)備污水產(chǎn)出率少，不容易對自然環(huán)境導(dǎo)致環(huán)境污染，有十分高的生態(tài)效益、經(jīng)濟(jì)收益，其發(fā)展前途寬闊。

超純水系統(tǒng)水質(zhì)檢測標(biāo)準(zhǔn)

在我國電子工業(yè)部電子器件級水體標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5CΩ.cm五級規(guī)范)、在我國電子工業(yè)部工業(yè)純水水體實施規(guī)范、英國半導(dǎo)體材料工業(yè)級純凈水指標(biāo)值、世界各國規(guī)模性集成電路芯片水質(zhì)檢測標(biāo)準(zhǔn)。

超純水系統(tǒng)市場前景

電鍍工藝領(lǐng)域超純水設(shè)備內(nèi)部還安裝有反滲透預(yù)除鹽技術(shù)性，再度從源頭上行確保了機(jī)器設(shè)備的出水量水體，此外，EDI處理設(shè)備污水產(chǎn)出率少，不容易對自然環(huán)境導(dǎo)致環(huán)境污染，有十分高的生態(tài)效益、經(jīng)濟(jì)收益，其發(fā)展前途寬闊。

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