超純水設(shè)備中EDI模塊的滲水歷經(jīng)預(yù)備處理和反滲透系統(tǒng)軟件在非常大的水平上降低了膜塊內(nèi)部堵塞的機遇，可是伴隨著機器設(shè)備運作時間的延伸，EDI膜塊內(nèi)部水路還是有可能造成堵塞。碰到上述所說情況，務(wù)必對超純水設(shè)備中EDI模塊開展清洗，使之修復(fù)到原先的技術(shù)性特點。

超純水設(shè)備中EDI模塊要怎么清洗?

1、線上清洗：線上清洗是指對反滲透系統(tǒng)軟件整體進行清洗，膜電子器件不用取下壓力容器，一般在非常大系統(tǒng)中方案設(shè)計運用。此清洗方式 方便使用方便快捷，速度更快，缺點為清洗不徹底，預(yù)期效果不理性化。

2、線下推廣清洗：線下推廣清洗是指將超純水設(shè)備中EDI模塊從反滲透壓力容器中卸除，放進專用清洗機械設(shè)備中進行清洗，此清洗方式 方便使用方便快捷，清洗徹底、預(yù)期效果較好是。

超純水設(shè)備中EDI模塊清洗常見問題

1、必須清洗的機器設(shè)備管路務(wù)必是與別的聯(lián)接機器設(shè)備的聯(lián)接管路徹底防護的。

2、必須清洗的機器設(shè)備其開關(guān)電源務(wù)必是徹底斷開并有“已經(jīng)實際操作，不可合閘”的安全警示標識。

3、全部清洗全過程中清洗的壓力不可以超出0.15MPa。

4、禁止運用二甲苯或其他的溶劑。

5、維護保養(yǎng)安全系數(shù)標志。